集成电路
集成电路装备用多轴压电纳米位移平台开发
预算 600万元
需求要点
技术关键词
集成电路人工智能多轴压电平台纳米位移
需求描述
1、从结构机制中补偿压电电机预载伸缩问题,提升DUV 掩模检测成像系统中产率和性能。 2、建立压电陶瓷堆叠在超精密微动台上的控制算法、非线性补偿优化算法及建模方法,实现亚纳米级定位精度
技术要求
1、从结构机制中补偿压电电机预载伸缩问题,提升DUV 掩模检测成像系统中产率和性能。 2、建立压电陶瓷堆叠在超精密微动台上的控制算法、非线性补偿优化算法及建模方法,实现亚纳米级定位精度 1、从结构机制中补偿压电电机预载伸缩问题,提升DUV 掩模检测成像系统中产率和性能。 2、建立压电陶瓷堆叠在超精密微动台上的控制算法、非线性补偿优化算法及建模方法,实现亚纳米级定位精度
