技术专利盘活专利发明专利2026.08.21#公开;2026.09.08#实质审查的生效;2026.09.29#授权

一种适用于高真空测量的真空规及其制备方法

湖南天羿领航科技有限公司· 湖南· CN202611105515.7

专利概览

申请人: 湖南天羿领航科技有限公司
发明人: 周仁;王呈祥;余良标
申请号: CN202611105515.7
专利号: CN202611105515.7
法律状态: 2026.08.21#公开;2026.09.08#实质审查的生效;2026.09.29#授权
主分类号: G01L21/22
IPC: G01L21/22

摘要

本发明公开了一种适用于高真空测量的真空规，包括自上而下依次设置的盖帽层、谐振结构层和底电极层，所述盖帽层与所述谐振结构层之间设有气膜间隙结构，所述气膜间隙结构的高度为0.2～4μm，所述谐振结构层与所述底电极层之间设有电容间隙结构，所述电容间隙结构的高度为1～15μm。其制备方法包括步骤：步骤1：原材料清洗；步骤2：晶圆裂片诱导；步骤3：盖帽层气膜间隙结构制备；步骤4：谐振结构层加工与下表面金属化；步骤5：底电极层电容间隙结构制备与上表面金属化；步骤6：三层结构键合；步骤7：晶圆裂片。本发明可以实现气膜间隙与电容间距解耦，有利于兼顾极小气膜间隙和较大的电容间距，有望拓展真空计的测量下限。