技术专利盘活专利发明专利2026.08.18#公开;2026.09.04#实质审查的生效;2026.09.22#授权

一种基于反应消耗辨识的ALD监测与闭环控制方法及系统

安徽华原微半导体有限公司· 安徽· CN202611087837.3

专利概览

申请人
安徽华原微半导体有限公司
发明人
林扬士;张嘉宏;陈世萤;程冰洁
申请号
CN202611087837.3
专利号
CN202611087837.3
法律状态
2026.08.18#公开;2026.09.04#实质审查的生效;2026.09.22#授权
主分类号
C23C16/455
IPC
C23C16/455;H10P74/20;H10P74/00;C23C16/52;C23C16/04;C23C16/44

摘要

本发明公开了一种基于反应消耗辨识的ALD监测与闭环控制方法及系统,属于半导体制造技术领域。该方法通过获取实时测量压力信号,建立气体导入流体力学模型,输出排除表面反应消耗因素的预测压力信号;计算测量压力信号与预测压力信号的差值,解耦出表征前驱物在表面因自限性化学反应净消耗量的反应消耗信号;实时计算该反应消耗信号的时间导数,当时间导数下降并低于预设物理饱和阈值时,判定表面反应达到饱和状态,随即发出指令截断当前前驱物气体的导入脉冲,实现沉积剂量的闭环控制。本发明能够从总压力信号中分离出表面反应消耗的纯净特征量,有助于提高ALD工艺控制的准确性和前驱物利用率,并对高深宽比结构具有良好的工艺适应性。

转化信息

许可费
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