技术专利盘活专利发明专利2010.10.13#公开;2010.11.24#实质审查的生效;2012.07.04#授权
一种应用适应性的正电子发射断层成像方法及装置
苏州瑞派宁科技有限公司;华中科技大学· 湖北· CN201010200478.0
专利概览
- 申请人
- 苏州瑞派宁科技有限公司;华中科技大学
- 发明人
- 谢庆国;刘晶晶
- 申请号
- CN201010200478.0
- 专利号
- CN201010200478.0
- 法律状态
- 2010.10.13#公开;2010.11.24#实质审查的生效;2012.07.04#授权
- 主分类号
- A61B6/02
- IPC
- A61B6/02
摘要
本发明公开了一种应用适应性的正电子发射断层成像方法及装置。本成像方法首先初扫描被检测对象，获得初步的活度信息；然后根据初扫描结果，规划并调整探测器模块，获得新的系统结构，并对新系统结构进行快速校正；再在新的系统结构下扫描，获取被检测对象的活度信息，若其质量满足应用需求，则结束扫描，否则，重新规划并调整探测器模块，并进行快速校正，在新结构下重新获得被检测对象的活度信息直至其质量满足应用需求。本成像装置包括探测器模块、探测器控制模块、图像重建模块和探测器规划模块。该成像方法能以较低的系统成本实现较高的系统性能，将系统性能提高了几倍到几十倍，节约系统建造成本，在被检测对象的感兴趣区域获取高质量图像。
转化信息
- 许可费
- 面议